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0519-09

真空等離子清洗機(jī)真空泵如何控制？ 真空等離子清洗機(jī) 的抽空主要是依靠真空泵來完成的，真空等離子清洗機(jī)屬在線式的和手拉門式的較為常見，所使用的真空泵有一個(gè)泵的也有兩個(gè)泵的，都是通過觸摸屏進(jìn)行操作控制，控制模...
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0519-09

實(shí)驗(yàn)型等離子清洗機(jī)真空泵控制方式 大學(xué)院校和科研機(jī)構(gòu)經(jīng)常會(huì)選用實(shí)驗(yàn)型等離子清洗機(jī) ，為保證實(shí)驗(yàn)的測試效果，選擇真空型的等離子清洗機(jī)較多，實(shí)驗(yàn)型的真空等離子設(shè)備比較小巧、處理效果也比較理想，真空度是保障效果的一大因素，接下來我們一起看看實(shí)驗(yàn)型等離子設(shè)備的真空泵控制方式。大部分真空等離子清洗機(jī)腔體抽空所使用的真空泵有干泵和油泵兩種，有的使用單個(gè)泵，也有使用泵組的。小型實(shí)驗(yàn)...
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0419-09

射流型大氣低溫等離子設(shè)備有什么特點(diǎn)和應(yīng)用？ 射流型大氣低溫等離子設(shè)備，是在大氣環(huán)境下對材料進(jìn)行表面處理的，其工作原理是將壓縮氣體通入等離子噴槍內(nèi)部氣流通道，在電極兩端施加交流高頻高壓，使兩電極間的壓縮氣體電離產(chǎn)生氣體弧光放電而形成等離子區(qū)。等離子在氣流的吹動(dòng)下到達(dá)被處理物體的表面而實(shí)現(xiàn)對表面進(jìn)行改性的目的。以普樂斯SZ-300型號的射流型大氣低溫等離子設(shè)備為例，射流型大氣低溫等離子設(shè)...
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0419-09

北大教授：中國半導(dǎo)體趕上美國還需5-10年！ 半導(dǎo)體代表了信息時(shí)代的基石技術(shù)。這些微型設(shè)備在一系列產(chǎn)品中充當(dāng)數(shù)據(jù)處理大腦，從個(gè)人電腦、智能手機(jī)到汽車和宇宙飛船等等，可謂驅(qū)動(dòng)著全球范圍的現(xiàn)代經(jīng)濟(jì)發(fā)展。盡管多年來中國在半...
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0419-09

DBD等離子體實(shí)驗(yàn)設(shè)備可以處理什么？ DBD等離子體實(shí)驗(yàn)設(shè)備的工作原理是由工件隨傳送帶電極勻速運(yùn)動(dòng)，給電極兩端施加高頻交流高壓，使兩電極間的氣體電離產(chǎn)生氣體弧光放電面形成等離子體區(qū)，工件在等離子體區(qū)勻速通過，從...
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0319-09

等離子表面處理機(jī)究竟是什么？有哪些典型應(yīng)用領(lǐng)域？ 等離子表面處理機(jī) 利用等離子體的物理和化學(xué)特性，在材料表面形成致密的物質(zhì)層或含氧基團(tuán)，是材料表面特性發(fā)生變化，提高表面親水性、粘接性等，在諸多行業(yè)中都有應(yīng)用。等離子體處理...
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0319-09

我國半導(dǎo)體市場現(xiàn)狀或?qū)⒊尸F(xiàn)整合態(tài)勢 特別是IC設(shè)計(jì)，由于進(jìn)入門檻相對較低，又有產(chǎn)業(yè)政策和資金的支持，使得IC設(shè)計(jì)及相關(guān)服務(wù)公司的數(shù)量快速增長。來自于中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)的統(tǒng)計(jì)顯示：到2018年，全國共有1698家IC設(shè)計(jì)企業(yè)，...
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0319-09

實(shí)驗(yàn)型小型等離子表面處理設(shè)備是什么樣的？ 實(shí)驗(yàn)型小型等離子表面處理設(shè)備的共性特點(diǎn)是比較小巧，一般使用在大學(xué)院校及實(shí)驗(yàn)室居多，普樂斯就以為大家整理出實(shí)驗(yàn)型小型等離子表面處理設(shè)備的一些特點(diǎn)、參數(shù)以及應(yīng)用的方向，供大...
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0219-09

12英寸集成電路項(xiàng)目落戶江蘇無錫 據(jù)錫山發(fā)布報(bào)道，此次吉姆西半導(dǎo)體投資建設(shè)的集成電路先進(jìn)制程技術(shù)及裝備研發(fā)制造項(xiàng)目計(jì)劃分兩期建設(shè)，一期投產(chǎn)時(shí)間預(yù)計(jì)為2021年第1季度，二期建設(shè)時(shí)間為2023年~2025年，項(xiàng)目建成達(dá)產(chǎn)后，...
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0219-09

等離子刻蝕在晶圓和線路板領(lǐng)域的使用 一、晶圓制造行業(yè)應(yīng)用在晶圓制造行業(yè)中光刻機(jī)利用四氟化碳?xì)怏w進(jìn)行硅片的線路刻蝕，等離子清洗機(jī)利用四氟化碳進(jìn)行氮化硅刻蝕及光刻膠去除。等離子刻蝕利用純四氟化碳?xì)怏w或四氟化碳與氧氣配合的方式可對晶圓制造中的氮化硅進(jìn)行微米級的刻蝕，利用四氟化碳與氧氣或氫氣配合的方式可對微米級的光刻膠進(jìn)行去除。二、線路板制造行業(yè)應(yīng)用等離子清洗機(jī)的刻蝕在線路...