用于半導(dǎo)體封裝的等離子清洗設(shè)備主要由哪些部分組成？

來源：普樂斯瀏覽：次發(fā)布日期：2018-10-29 16:44【大中小】

文章導(dǎo)讀：等離子清洗設(shè)備有多種叫法，例如等離子清洗機(jī)、等離子表面處理設(shè)備、低溫等離子處理設(shè)備、等離子表面處理系統(tǒng)、電漿機(jī)、Plasma cleaner等，半導(dǎo)體封裝用到的等離子清洗設(shè)備是什么樣的呢？

按照等離子體產(chǎn)生的機(jī)制業(yè)界一般分為常壓（大氣）等離子清洗設(shè)備和低壓（真空）等離子清洗設(shè)備，半導(dǎo)體封裝行業(yè)用到的等離子清洗設(shè)備屬于后者。等離子清洗設(shè)備主要由以下幾部分組成：

1、真空腔體：帶有各種結(jié)構(gòu)的放電電極，使得反應(yīng)氣體激發(fā)生成等離子體，形成不同狀態(tài)、不同特性和密度的等離子體

2、等離子發(fā)生器：含電源和匹配器，提供反應(yīng)氣體放電能量來源，維持等離子體放電狀態(tài)；有不同的頻率區(qū)分。

3、真空泵：抽取真空，保持真空度，抽走未電離的工藝氣體和反應(yīng)副產(chǎn)物；包括單級(jí)泵和泵組。

4、真空計(jì)：監(jiān)測真空腔體的真空度。

5、流量計(jì)：測量反應(yīng)氣體的流量。

6、反應(yīng)氣體：各種工藝氣體，如Ar、H₂、N₂、O₂、CF₄等，根據(jù)需要使用單一氣體或者兩種以上的混合氣體。

等離子清洗機(jī)反應(yīng)的氣體

7、電氣控制：含軟件，保證設(shè)備運(yùn)行、監(jiān)測、數(shù)據(jù)采集和工藝參數(shù)設(shè)定等。

親，如果您對(duì)等離子清洗機(jī)感興趣或者想了解更多詳細(xì)信息，歡迎點(diǎn)擊普樂斯的在線客服進(jìn)行咨詢，或者直接撥打全國統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009，普樂斯恭候您的來電！

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