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等離子表面處理具有哪些功能特性?

返回列表 來源:普樂斯 瀏覽: 發(fā)布日期:2018-11-08 13:47【
文章導(dǎo)讀:[文章導(dǎo)讀]?低溫等離子體通過與基體材料表面發(fā)生物理、化學(xué)反應(yīng),產(chǎn)生刻蝕而粗糙,或形成致密的交聯(lián)層,或引入含氧極性基團(tuán),使親水性、粘結(jié)性、可染色性、生物相容性及電性能分別得到改善。
等離子表面處理過程中同時(shí)具有如下一些功能特性:

1、等離子清洗:去除基體材料表面的無機(jī)物或弱鍵以及典型-CH 基有機(jī)污染物和氧化物。
主要特點(diǎn):只與材料表面納米級(jí)的厚度起反應(yīng),而對(duì)內(nèi)部無任何侵蝕,得到超高潔凈表面為下道工序做好準(zhǔn)備。如圖所示:
    等離子表面處理特征1
2、等離子活化:與基體材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)在表面形成C=O羰基(Carbonyl) 、-COOH羧基(Carboxyl) 、−OH羥基(Hydroxyl)三種基團(tuán)。這些基團(tuán)具有穩(wěn)定的親水功能,對(duì)粘接有積極作用。主要特點(diǎn):可使聚合物表面出現(xiàn)部分活性原子、自由基和不飽和鍵,這些活性基團(tuán)與等離子體中的活性粒子發(fā)生反應(yīng)生成新的活性基團(tuán),從而增加表面能量,改變表面的化學(xué)特性,增強(qiáng)表面附著力、粘結(jié)力。如圖所示:
等離子表面處理特征2
3、等離子刻蝕:利用典型的氣體組合形成具有強(qiáng)烈蝕刻性的氣相等離子體與基體材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成如CO、CO2、H2O等揮發(fā)氣體,從而達(dá)到蝕刻的目的。
主要特點(diǎn):可選擇性刻蝕;能有效去除表面異物,達(dá)到理想粗糙度。如圖所示:
等離子表面處理特征3
4、等離子涂層(接枝、沉積):兩種以上氣體(或單體)同時(shí)進(jìn)入反應(yīng)腔體,氣體在等離子環(huán)境下會(huì)聚合。這種應(yīng)用比活化和清洗的要求更嚴(yán)格一些。典型的應(yīng)用是保護(hù)層的形成,應(yīng)用于燃料容器、防刮表面、類似聚四氟乙烯(PTFE)材質(zhì)的涂鍍、防水鍍層等。
主要特點(diǎn):可使材料表面分子鏈發(fā)生斷裂產(chǎn)生新的自由基、雙鍵等活性基團(tuán),隨之發(fā)生交聯(lián)、接枝等反應(yīng);同時(shí)活性氣體會(huì)在材料表面聚合產(chǎn)生一層沉積層,此沉積層的存在將極大地提高材料表面的粘接、涂覆和印刷的結(jié)合力。如圖所示:
等離子表面處理特征4
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