晶圓光刻膠去除能用等離子清洗機(jī)嗎?該使用哪種設(shè)備?
文章導(dǎo)讀:在半導(dǎo)體行業(yè)中,晶圓清洗是一個(gè)必不可少的環(huán)節(jié),其中晶圓殘留光刻膠的去除,就能夠用等離子清洗機(jī)進(jìn)行處理的。那么晶圓光刻膠去除所用的等離子清洗設(shè)備該用哪種呢?
在晶圓光刻膠去除的實(shí)際應(yīng)用中,基本都會(huì)采用感應(yīng)耦合式的真空低壓等離子清洗機(jī),這種類型的等離子清洗機(jī)仿佛也逐漸成為半導(dǎo)體行業(yè)的專屬,那么這類等離子清洗設(shè)備的結(jié)構(gòu)和一般常見的等離子處理設(shè)備有什么不同的地方呢?

等離子清洗機(jī)感應(yīng)放電等離子體是通過將射頻功率加在一個(gè)非共振線圈上產(chǎn)生的。因此該種等離子清洗機(jī)的常見結(jié)構(gòu)主要有兩種,都適用在低長寬比的放電系統(tǒng)中。其中一種常見結(jié)構(gòu)是螺旋型結(jié)構(gòu),采用的是圓筒螺旋狀線圈類型,如下圖所示。

另一種常見結(jié)構(gòu)是盤香型結(jié)構(gòu),采用的是平面盤繞狀線圈類型如下圖所示。

此外,有一種較為特別的盤香型結(jié)構(gòu)是將盤繞狀線圈加入等離于體內(nèi)部的放電類型,其結(jié)構(gòu)如下圖所示。

感應(yīng)耦合式的等離子清洗設(shè)備具有較為特別的基本原理和特點(diǎn),因此在設(shè)計(jì)過程中要對工藝和效率進(jìn)行把控,才能保證良好的等離子表面處理效果。在此簡單提一點(diǎn),用于處理LCD液晶屏的等離子清洗機(jī),就是使用的內(nèi)置盤繞狀線圈感應(yīng)生成等離子體。
普樂斯從2011年開始涉足半導(dǎo)體行業(yè)至今已有9年,專注研制等離子清洗機(jī),等離子體清洗機(jī),等離子清洗設(shè)備,常壓大氣和低壓真空型低溫等離子表面處理機(jī),在光刻膠去除、打線即W/B前清洗和塑封即Molding前活化等工藝方面積累了較為豐富的等離子表面處理經(jīng)驗(yàn),合作客戶接近20家,我們正努力成為半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域的等離子表面處理工藝解決方案服務(wù)商。是行業(yè)內(nèi)值得信賴的等離子清洗機(jī)廠家。等離子表面處理過的樣品包括:硅晶圓、玻璃基板、陶瓷基板、IC載板、銅引線框架等。如果您想要了解更多關(guān)于產(chǎn)品的詳細(xì)內(nèi)容或在設(shè)備使用中有疑問,歡迎點(diǎn)擊普樂斯的在線客服進(jìn)行咨詢,或者直接撥打全國統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009,普樂斯恭候您的來電!
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