提前半年？ASML新一代光刻機預計明年年中出貨，普樂斯等離子清洗機
文章導讀：普樂斯等離子清洗機引用TechWeb、網(wǎng)易科技相應內(nèi)容，據(jù)了解，ASML所正研發(fā)的第3款極紫外光刻機預計將于2021年中開始出貨。
普樂斯等離子清洗機引用TechWeb、網(wǎng)易科技相應內(nèi)容，據(jù)了解，ASML所正研發(fā)的第3款極紫外光刻機預計將于2021年中開始出貨。
據(jù)了解，荷蘭ASML在其三季度的財報中指出，其新款光刻機預計將在2021年年中開始出貨的，新款光刻機的生產(chǎn)效率約將有18%的提升，在30mJ/cm2的曝光速度下每小時可處理的晶圓數(shù)可達160片。如果這款光刻機與ASML之前2019年的年報中提及的新光刻機為同一款的話，那么ASML的新款光刻機的出貨時間，就較原計劃提前約半年。
ASML的極紫外光刻機對先進芯片制程工藝的重要性就不用多說了，臺積電和三星這兩的7nm和5nm工藝，都必須依靠ASML的EUV光刻機，預計新款EUV光刻機出貨后，也將由臺積電和三星先開始使用。
此外，ASML目前的兩款EUV光刻機，都是采用的波長為13.5nm的極紫外光源，在20mJ/cm2的曝光速度下，其每小時的晶圓處理量分別能達125片和170片。
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普樂斯從2011年開始涉足半導體行業(yè)至今已有9年，專注研制等離子清洗機，等離子體清洗機，等離子清洗設(shè)備，常壓大氣和低壓真空型低溫等離子表面處理機，在光刻膠去除、打線即W/B前清洗和塑封即Molding前活化等工藝方面積累了較為豐富的等離子表面處理經(jīng)驗，合作客戶接近20家，我們正努力成為半導體封裝領(lǐng)域的等離子表面處理工藝解決方案服務(wù)商。是行業(yè)內(nèi)值得信賴的等離子清洗機廠家。等離子表面處理過的樣品包括：硅晶圓、玻璃基板、陶瓷基板、IC載板、銅引線框架等。如果您想要了解更多關(guān)于產(chǎn)品的詳細內(nèi)容或在設(shè)備使用中有疑問，歡迎點擊普樂斯的在線客服進行咨詢，或者直接撥打全國統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009，普樂斯恭候您的來電！
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