本發(fā)明涉及電漿機技術領域，尤其涉及一種半導體電漿機。半導體等離子機也叫等離子刻蝕機。等離子蝕刻是最常見的干蝕刻形式。其原理是暴露在電子區(qū)的氣體形成等離子體，產(chǎn)生的電離氣體和高能電子組成的氣體被釋放，從而形成等離子體或離子。當電離的氣體原子被電場加速時，它們會釋放出足夠的力來緊緊地附著在材料上或蝕刻表面。目前，半導體電漿機需要在真空環(huán)境下進行刻蝕，但現(xiàn)有電漿機密封效果差，導致空氣中的氧化氣體進入電漿機，導致半導體表面刻蝕不均勻，使用不方便。鑒于此，我們提出一種半導體電漿機。

本發(fā)明的目的是提供一種半導體等離子電漿機，以解決上述背景技術中提出的半導體電漿機密封效果差的問題。為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了如下技術方案：一種半導體電漿機，包括電漿機體，所述電漿機體的正面設有顯示屏，所述顯示屏下方設有控制面板，所述電漿機體的上表面設有通孔，所述顯示屏一側(cè)的電漿機體的正面設有蝕刻室， 通孔與蝕刻室連通，電漿機體的上表面設有真空泵。 真空泵通過第一螺栓與電漿機體的上表面固定連接；真空泵的輸出端設有排氣管；排氣管的一端通過通孔伸入蝕刻室；滾筒安裝在等離子機體下表面的四個角上。排氣管與通孔的連接處設有法蘭，法蘭上設有多個第二螺栓，法蘭通過第二螺栓與電漿機體的上表面固定連接。法蘭與通孔的連接處設有墊圈。矩形塞的橫截面尺寸與矩形槽的尺寸相匹配，矩形塞通過矩形槽與空心密封墊相插配。倉門的正面設有窗戶。門靠近顯示屏的一側(cè)設有弧形凹槽，電漿機體的正面與氣缸緊密焊接，氣缸的一端與轉(zhuǎn)軸緊密焊接，轉(zhuǎn)軸上設有限位器，限位器的一端設有圓孔，另一端與限位柱緊密焊接。轉(zhuǎn)軸穿過圓孔，擋塊通過轉(zhuǎn)軸與氣缸轉(zhuǎn)動連接。限位柱通過弧形槽與倉門滑動連接。弧形槽的中心角度設置為90-120度。

與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明的有益效果是：倉門關閉后，通過轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動限位器，使限位器一端的限位柱滑入弧形槽的另一端，限位柱在蝕刻倉的開啟位置扣合倉門，使限位柱對倉門起到一定的限位作用，從而實現(xiàn)倉門的關閉；同時，矩形塞通過矩形槽與中空密封墊插入配合，提高倉門與刻蝕倉連接處的密封效果，防止空氣中的氧化氣體進入刻蝕倉，提高半導體表面的刻蝕均勻性，解決半導體電漿機密封效果差的問題。