等離子清洗機大氣射流等離子體的發(fā)展和影響射流長度的條件
文章導(dǎo)讀：大氣射流等離子體裝置有哪些發(fā)展階段？影響等離子清洗機射流長度的條件有什么？接下來普樂斯就為大家普及相關(guān)的內(nèi)容：
當(dāng)前，微電子工業(yè)中用到的等離子清洗機低溫等離子體工藝仍是在真空條件下來完成的。真空條件為大面積均勻性提供了保證，但是，真空條件所需要的投入在整個等離子體工藝線的投資方面占了很大的比例。因此，為了擺脫對真空環(huán)境的依賴，在大氣壓條件下獲得均勻放電等離子體的問題在20世紀(jì)80~90年代被提到了議事日程，并在全球范圍內(nèi)形成了巨大的研究熱潮，為大氣射流等離子體的發(fā)展提供了良好基礎(chǔ)。
1 大氣壓非熱力平衡態(tài)冷等離子體射流（n-TECAPPJ）裝置的前身
20世紀(jì)90年代初，Koinuma等開發(fā)出了一種微束等離子體裝置。該裝置放棄了大面積均勻性的要求，在直徑2mm的范圍內(nèi)，采用CF(1%)/He作為放電氣體和70W的射頻功率，在硅片上本得了5nm/s的刻蝕速率。這種裝置可以認(rèn)為是n-TECAPPJ所用裝置的前身。
20世紀(jì)90年代初，Koinuma等開發(fā)出了一種微束等離子體裝置。該裝置放棄了大面積均勻性的要求，在直徑2mm的范圍內(nèi)，采用CF(1%)/He作為放電氣體和70W的射頻功率，在硅片上本得了5nm/s的刻蝕速率。這種裝置可以認(rèn)為是n-TECAPPJ所用裝置的前身。
由于其消耗的平均功率非常小，所產(chǎn)生的等離子體射流對環(huán)境以及被處理材料表面幾乎沒有什么熱效應(yīng)，因此可以將其稱為“冷等離子體射流”。射頻與高頻放電等離子體的產(chǎn)生機理是有所不同的；從應(yīng)用的角度來看，高頻電源更便宜，相關(guān)裝置的設(shè)計與制造也更間單，因此更實用，從近十年的文獻(xiàn)分析來看，這類裝置的結(jié)構(gòu)大多采用了在惰性氣體(或以惰性氣體為主摻入一些活性氣體)氣流通道上形成DBD。
2 實驗測量得出影響射流長度的條件
等離子體子弓單的速度是人們比較關(guān)心的一個問題，雖然Teschke等早在2005年就已經(jīng)指出，等離子體子弓單是一種電驅(qū)動效應(yīng)，與氣流無關(guān)，因為在大多數(shù)實驗條件下氣體流速僅約10m/s，比上述子弓單的速度小3~4個數(shù)量級，但是實驗發(fā)現(xiàn)氣體流速對等離子體子弓單所形成的射流在空氣中的長度有決定性的影響。
孫姣等zui早報道了氣體流速與射流長度的關(guān)系。通過采用一種焓探針來測量流出石英管的氣體的軸向流速，他們發(fā)現(xiàn)無論是氦氣還是氬氣產(chǎn)生的等離子體射流的長度，在氣體處于層流狀態(tài)下時，幾乎與氣體流速成線性關(guān)系。 進(jìn)一步的實驗研究表明，情況比該結(jié)論更復(fù)雜，除了氣體流量或流速外，驅(qū)動電源的參數(shù)如電壓、頻率、脈沖寬度等在一定的條件下都會影響射流的長度。
普樂斯電子9年專注研制等離子清洗機，等離子表面處理設(shè)備，已通過ISO9001質(zhì)量體系和歐盟CE認(rèn)證，為電子、半導(dǎo)體、汽車、yi療等領(lǐng)域的客戶提供清洗，活化，刻蝕，涂覆的等離子表面處理解決方案。如果您想要了解更多關(guān)于產(chǎn)品的詳細(xì)內(nèi)容或在設(shè)備使用中有疑問，歡迎點擊普樂斯的在線客服進(jìn)行咨詢，或者直接撥打全國統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009，普樂斯恭候您的來電！
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等離子體子弓單的速度是人們比較關(guān)心的一個問題，雖然Teschke等早在2005年就已經(jīng)指出，等離子體子弓單是一種電驅(qū)動效應(yīng)，與氣流無關(guān)，因為在大多數(shù)實驗條件下氣體流速僅約10m/s，比上述子弓單的速度小3~4個數(shù)量級，但是實驗發(fā)現(xiàn)氣體流速對等離子體子弓單所形成的射流在空氣中的長度有決定性的影響。
孫姣等zui早報道了氣體流速與射流長度的關(guān)系。通過采用一種焓探針來測量流出石英管的氣體的軸向流速，他們發(fā)現(xiàn)無論是氦氣還是氬氣產(chǎn)生的等離子體射流的長度，在氣體處于層流狀態(tài)下時，幾乎與氣體流速成線性關(guān)系。 進(jìn)一步的實驗研究表明，情況比該結(jié)論更復(fù)雜，除了氣體流量或流速外，驅(qū)動電源的參數(shù)如電壓、頻率、脈沖寬度等在一定的條件下都會影響射流的長度。
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