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1819-09

等離子刻蝕中影響氮化硅側(cè)壁蝕刻傾斜度的參數(shù)有哪些？ 等離子表面處理系統(tǒng)能夠完成表面清洗、活化、刻蝕以及涂鍍等諸多功能，依據(jù)所需處理的材料與處理的目的，等離子表面處理系統(tǒng)能夠完成不同的處理效果。等離子表面處理設(shè)備在半導(dǎo)體方向的使用有等離子刻蝕、顯影、去膠、封裝等。等離子刻蝕工藝在半導(dǎo)體集成電路中，既能夠刻蝕上表層的光刻膠，也能夠刻蝕基層的氮化硅層，不僅如此還需要防止其對(duì)硅襯底造成刻蝕損...
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1819-09

影響等離子表面處理效果的設(shè)備的工藝參數(shù)有哪些？ 普樂(lè)斯的等離子表面處理設(shè)備在多種領(lǐng)域、多類材料上都有應(yīng)用，不同的材料及工藝要求，對(duì)等離子表面處理的效果也會(huì)有所不同，您可能有過(guò)了解，等離子表面處理的一個(gè)突出特征就是處理產(chǎn)...
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1619-09

常見(jiàn)的等離子表面處理機(jī)有哪些？ 等離子表面處理機(jī)在諸多工業(yè)和實(shí)驗(yàn)領(lǐng)域都有使用，剛一接觸的小伙伴來(lái)說(shuō)，往往不知道常見(jiàn)的等離子表面處理機(jī)的具體型號(hào)。業(yè)內(nèi)所說(shuō)的常壓大氣型設(shè)備和低壓真空型設(shè)備就是根據(jù)放電形成等...
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1219-09

肉眼難辨？來(lái)看看等離子表面處理前后區(qū)別吧！ 等離子體是一種物質(zhì)的聚集態(tài)，具有較高的能量密度和活性；等離子表面處理工藝是利用等離子體的特性，對(duì)材料表面進(jìn)行表面納米級(jí)處理，從而達(dá)到理想處理目的的一項(xiàng)表面處理工藝。那么既...
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1119-09

等離子清洗設(shè)備在半導(dǎo)體封裝有哪些應(yīng)用？ 半導(dǎo)體的器件在生產(chǎn)過(guò)程的工序中幾乎都有清洗這一步驟，其目的是徹底清除器件的表面微粒、有機(jī)物和無(wú)機(jī)物雜質(zhì)，從而提高產(chǎn)品質(zhì)量。隨著行業(yè)的發(fā)展和技術(shù)的進(jìn)步，干式的等離子清洗工藝，已經(jīng)在半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用，接下來(lái)就為大家介紹等離子清洗設(shè)備究竟在半導(dǎo)體封裝的哪些具體的領(lǐng)域或工藝上有所應(yīng)用。半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域所用的等離子清洗設(shè)備可分為獨(dú)立式...
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1019-09

接觸角測(cè)試儀是什么？在哪些行業(yè)有應(yīng)用？ 不同的液體接觸固體后會(huì)產(chǎn)生不同角度，液滴在不同材料表面形成的角度液不同，這是因?yàn)椴牧媳旧淼挠H水性和疏水性不同，接觸角測(cè)試儀也叫接觸角儀、水滴角測(cè)量?jī)x、水滴角測(cè)試儀、水接...
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0919-09

等離子表面處理去除光刻膠的工藝與設(shè)備 晶圓表面光刻膠去除是晶圓制造過(guò)程的其中一個(gè)環(huán)節(jié)，是否去除徹底；是否對(duì)表面有損傷等因素，都會(huì)影響后續(xù)的工藝進(jìn)行，任何一個(gè)小缺陷都可能造成晶圓的整片報(bào)廢。傳統(tǒng)去除光刻膠選用的是濕化學(xué)方法，隨著工藝制程的不斷提高，濕化學(xué)方法的缺點(diǎn)愈發(fā)顯現(xiàn)出來(lái)，如反應(yīng)不能精準(zhǔn)控制，清洗不徹底，容易引入雜質(zhì)等。而作為干式方法的晶圓級(jí)封裝等離子表面處理可控性強(qiáng)...
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0519-09

實(shí)驗(yàn)型等離子清洗機(jī)真空泵控制方式 大學(xué)院校和科研機(jī)構(gòu)經(jīng)常會(huì)選用實(shí)驗(yàn)型等離子清洗機(jī) ，為保證實(shí)驗(yàn)的測(cè)試效果，選擇真空型的等離子清洗機(jī)較多，實(shí)驗(yàn)型的真空等離子設(shè)備比較小巧、處理效果也比較理想，真空度是保障效果的一大因素，接下來(lái)我們一起看看實(shí)驗(yàn)型等離子設(shè)備的真空泵控制方式。大部分真空等離子清洗機(jī)腔體抽空所使用的真空泵有干泵和油泵兩種，有的使用單個(gè)泵，也有使用泵組的。小型實(shí)驗(yàn)...
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0419-09

DBD等離子體實(shí)驗(yàn)設(shè)備可以處理什么？ DBD等離子體實(shí)驗(yàn)設(shè)備的工作原理是由工件隨傳送帶電極勻速運(yùn)動(dòng)，給電極兩端施加高頻交流高壓，使兩電極間的氣體電離產(chǎn)生氣體弧光放電面形成等離子體區(qū)，工件在等離子體區(qū)勻速通過(guò)，從...
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0319-09

實(shí)驗(yàn)型小型等離子表面處理設(shè)備是什么樣的？ 實(shí)驗(yàn)型小型等離子表面處理設(shè)備的共性特點(diǎn)是比較小巧，一般使用在大學(xué)院校及實(shí)驗(yàn)室居多，普樂(lè)斯就以為大家整理出實(shí)驗(yàn)型小型等離子表面處理設(shè)備的一些特點(diǎn)、參數(shù)以及應(yīng)用的方向，供大...